论文部分内容阅读
为了探讨极低频（ELF）磁场可能存有的促癌作用或协同促癌作用，观察了50 Hz磁场对CHL细胞间缝隙连接通讯（GJIC）功能的影响。利用离子电渗注射法将荧光染料引入细胞内，以5分钟后的荧光偶合细胞（DCC）数作为GJIC功能的指标。研究了不同浓度的十四酰基咐拜醇酯（TPA）、不同强度的工频磁场及工频磁场与TPA（5ng/ml）共同作用对CHL细胞GJIC的影响。结果表明，TPA对GJIC的抑制具有浓度依赖关系，TPA抑制CHL细胞GJIC的阈浓度在1～5 ng/ml之间；CHL细胞经0.80 mT的工频磁场暴露24小时后的DCC数降至6.08±1.59，与空白对照组（9.84±2.27）比较，差异有显著性（P<0.05)；0.20,0.40,0.80mT强度的工频磁场与5ng/ml TPA共同作用后的DCC数分别降至5.52±1.53，5.00±1.22,4.00±1.29，与单用5ng/ml TPA组（6.38±1.39）比较，差异也有显著性（P<0.05)。说明一定强度的工频磁场具有抑制或协同抑制GJIC的作用，提示其可能存有促癌或协同促癌作用。