论文部分内容阅读
在俄歇电子谱(AES)定量分析中,离子溅射是最常用的表面清洁手段。我们在常规的实验条件下,用AES分析了AgCu、NiCr、CuZa和TiMo合金经低能Ar~+离子轰击后表面成分的变化。用不同的离子溅射理论修正关系修正后发现,在减小离子诱导偏析和增强扩散的条件下,采用Shimizu的修正关系和Sigmuad的级联溅射产额比关系可得到误差较小的定量分析结果。文中对各种修正理论的误差进行了讨论,认为提出的修正措施及方法对实际定量AES分析精度的提高具有一定的意义。