Ti/Al2O3界面反应的俄歇电子能谱研究

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用俄歇电子能谱详细研究了Ti/Al2O2的界面反应。通过观察Ti的L23M23M45,L23M23M23及Al的LVV俄歇发射强度、峰形及位置随深度变化,研究了Ti-O,Al-O,Ti-Al等价键结合状态,同时考察Al不同化合态俄歇峰的化学位移。选取特征峰,进行Auger深度分析。实验表明室温下Ti-Al价键结合状态。原子浓度分布曲线显示界面反应区域随退火温度增加而变宽变高。8650
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