【摘 要】
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采用射频磁控溅射法分别在不同溅射功率下制备了Hf O2薄膜,基于该组薄膜实现了金属-绝缘体-金属（MIM）电容器原型器件。采用Raman、原子力显微镜（AFM）、扫描电子显微镜（SEM）、X射线
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目(61471326);国家高新技术研究发展计划(863计划)资助项目(2015AA042601)
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采用射频磁控溅射法分别在不同溅射功率下制备了Hf O2薄膜,基于该组薄膜实现了金属-绝缘体-金属（MIM）电容器原型器件。采用Raman、原子力显微镜（AFM）、扫描电子显微镜（SEM）、X射线光电子能谱学（XPS）和电学测试仪等分析手段,研究了溅射功率对薄膜微结构和电学特性的影响。测试结果表明,随着溅射功率的增加,HfO2薄膜由无定形态向单斜晶相转化、颗粒尺寸逐渐增大、Hf—O键结合度增强,由于提高溅射功率导致了薄膜晶化、团簇和Hf—O结合能减小,使MIM电容器击穿电压降低,漏电流呈现先降后增。结果表明溅射功率为150 W时,HfO2薄膜获得较好的电学性能。
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