TiN／Si3N4纳米多层膜的生长结构与超硬效应

来源 :真空科学与技术学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：wohao1025

【摘要】

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采用磁控溅射方法制备了一系列不同Si3N4和TiN层厚的TiN/Si3N4纳米多层膜,采用X射线衍射、高分辨电子显微分析和微力学探针表征了薄膜的微结构和力学性能,研究了Si3N4和TiN层

【作者】

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胡晓萍董云杉孔明李戈扬顾明元

【机构】

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上海交通大学

【出处】

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真空科学与技术学报

【发表日期】

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2005年4期

【关键词】

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TiN/Si3N4纳米多层膜 Si3N4晶化外延生长超硬效应 TiN/Si3N4 nanomultilayers Crystallization of S

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采用磁控溅射方法制备了一系列不同Si3N4和TiN层厚的TiN/Si3N4纳米多层膜,采用X射线衍射、高分辨电子显微分析和微力学探针表征了薄膜的微结构和力学性能,研究了Si3N4和TiN层厚对多层膜生长结构和力学性能的影响.结果表明:当Si3N4层厚小于0.7 nm时,原为非晶的Si3N4在TiN的模板作用下晶化并与之形成共格外延生长的柱状晶,使TiN/Si3N4多层膜产生硬度和弹性模量异常升高的超硬效应.最高硬度和弹性模量分别为34.0 GPa和353.5 GPa.当其厚度大于1.3 nm时,Si3N4

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