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两种蚀刻法制作埋嵌电容PCB的对比研究
两种蚀刻法制作埋嵌电容PCB的对比研究
来源 :印制电路信息 | 被引量 : 0次 | 上传用户:lanqin2394
【摘 要】
:
蚀刻法是埋嵌电容技术中研究与应用较多的方法。文章研究了双面蚀刻一次层压与单面蚀刻两次层压这两种工艺方法,并指出了两种方法加工埋嵌电容PCB工艺过程的关键点。通过电容
【作 者】
:
苏世栋
陈苑明
何为
【机 构】
:
运城学院物理与电子工程系,电子科技大学微电子与固体电子学院
【出 处】
:
印制电路信息
【发表日期】
:
2012年12期
【关键词】
:
埋嵌电容
蚀刻
层压
Embedded Capacitor
Etching
Lamination
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蚀刻法是埋嵌电容技术中研究与应用较多的方法。文章研究了双面蚀刻一次层压与单面蚀刻两次层压这两种工艺方法,并指出了两种方法加工埋嵌电容PCB工艺过程的关键点。通过电容值测量及回流焊测试,对比分析了不同工艺方法对埋嵌电容PCB的容值精确度及耐热性能的影响,明确了这两种工艺方法的优缺点。
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