射频磁控溅射制备类金刚石薄膜的特性

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采用射频磁控溅射技术,用高纯石墨靶在单晶硅片、抛光不锈钢片上制备了类金刚石薄膜(DLC)。采用Raman光谱、原子力显微镜、显微硬度分析仪,表征了类金刚石薄膜的微观结构、表面形貌、硬度。结果表明,制备的类金刚石薄膜中含sp^2,sp^3杂化碳键,具有典型的类金刚石结构特征。计算表明,对应sp^3杂化碳原子含量的ID/IC为3.18;薄膜的表面十分平整光滑,表面粗糙度极低,平均粗糙度Ra为0.17nm;薄膜硬度可以高达30.8GPa。
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