Ti-Pt-Au多层金属化系统在半导体器件上的应用

来源 :哈尔滨工业大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:maomao0464
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本文研究了一种以铝作为溅射刻蚀金、铂的掩膜,制作Ti-Pt-Au多层金属化系统的工艺;并采用该金属化系统制造出试验用超高频器件和高频器件。器件制造和其后的可靠性试验考核的结果表明,在生产中如采用该金属化系统,能够较大幅度地提高器件合格率和可靠性水平。 In this paper, a process of forming a Ti-Pt-Au multi-layer metallization system by using aluminum as a mask for etching gold and platinum is studied. The metallization system is used to fabricate a test UHF device and a high frequency Device. Device manufacturing and subsequent reliability test results show that the use of the metal in the production system, the device can significantly improve the pass rate and reliability levels.
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