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分别以铝、铒、镱为靶材,采用脉冲激光沉积技术(PLD),在二氧化硅/硅基底上沉积镱、铒共掺的三氧化二铝薄膜.利用原子力显微镜(AFM)、单色仪等分析手段,研究了薄膜的表面形貌、光致发光强度(PL)等性质.优化了氧分压和靶间距两个重要工艺参数.光致发光强度提高14倍,半峰宽提高了70nm.
脉冲激光溅射沉积镱铒共掺Al2O3薄膜工艺参数优化
【摘 要】
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分别以铝、铒、镱为靶材,采用脉冲激光沉积技术(PLD),在二氧化硅/硅基底上沉积镱、铒共掺的三氧化二铝薄膜.利用原子力显微镜(AFM)、单色仪等分析手段,研究了薄膜的表面形貌
【机 构】
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大连大学物理科学与技术学院
【出 处】
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应用激光
【发表日期】
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2004年期
【基金项目】
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国家自然科学基金
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