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采用紫外光刻法制得图案化的阳极氧化铝模板。在模板上蒸镀金膜后，采用电化学沉积法制备了铜纳米线，用扫描电子显微镜观察，研究了最佳电化学沉积时间。结果表明，铜纳米线阵列的图案与掩膜的图案完全一致，呈直径约5μm的圆形。铜纳米线的长度随沉积时间的增加而增长，沉积时间20min，即可制得长度约5μm的铜纳米线阵列结构。在此基础上可研制微器件。