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射频磁控溅射制备SiO2膜
射频磁控溅射制备SiO2膜
来源 :真空科学与技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:qq273683019
【摘 要】
:
利用石英靶射频磁控溅射制备SiO2膜的工艺,采用L型阻抗匹配网络,并计算得到了等离子体的等效电容及等效电导。指出射频功率密度是最重要的沉积参数,靶面自偏压及SiO2膜沉积速度均随功率密
【作 者】
:
陈国平
张随新
【机 构】
:
东南大学薄膜研究所
【出 处】
:
真空科学与技术
【发表日期】
:
1995年5期
【关键词】
:
射频磁控溅射
阻抗匹配
二氧化硅膜
SiO_2 thin fimls
RF magnetron sputtering
Impedance matching
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利用石英靶射频磁控溅射制备SiO2膜的工艺,采用L型阻抗匹配网络,并计算得到了等离子体的等效电容及等效电导。指出射频功率密度是最重要的沉积参数,靶面自偏压及SiO2膜沉积速度均随功率密度的增加而线性增加。
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