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同一芯片上制作变周期布拉格光栅的改进全息曝光法
同一芯片上制作变周期布拉格光栅的改进全息曝光法
来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:IDYLL123
【摘 要】
:
提出了一种采用传统光学全息曝光技术,在同一芯片上制作不同周期的布拉格光栅的新方法,在这个简单实用的方法中,聚酰亚胺用来保护第一次做好的某一周期的光栅,这种新方法制作工艺
【作 者】
:
谢红云
周帆
王宝军
杨华
朱洪亮
赵玲娟
王圩
【机 构】
:
中国科学院半导体研究所
【出 处】
:
半导体学报
【发表日期】
:
2005年7期
【关键词】
:
布拉格光栅
DFB激光器
多波长
疏波分复用
holographic grating
DFB laser
multi-wavelength
CWDM
【基金项目】
:
国家重点基础研究发展计划(批准号:G20000683-1),国家自然科学基金(批准号:90401025),国家高技术研究发展计划(批准号:2002AA312150)资助项目
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提出了一种采用传统光学全息曝光技术,在同一芯片上制作不同周期的布拉格光栅的新方法,在这个简单实用的方法中,聚酰亚胺用来保护第一次做好的某一周期的光栅,这种新方法制作工艺简单,成本低,且与传统的半导体工艺兼容。
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