高纯Ti3SiC2块体的热压原位合成及性能研究

来源 :北京交通大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:haoz8
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以Ti、Si和石墨粉为原料,以少量的灿为反应助荆,用反应热压(船)工艺在1450℃和25MPa下2h制得纯度为97%、相对密度为98.45%、粒度为5~10μm的Ti3SiC2多晶块体.其弯曲强度为407MPa、室温电阻率为0.22×10^-6Ω·m、维氏硬度为3.97GPa.与Barsoum和Ei—Raghy在1600℃和40MPa下烧结4h获得的样品相比,本样品显示了较低的弯曲强度,基本相同的纯度、电阻率和硬度.
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