【摘 要】
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通过共价自组装方法将硫普罗宁修饰在金电极表面形成单分子膜，通过配位键富集Cu2＋后，用十二烷基硫醇封闭电极表面“针孔”，然后移去Cu抖，从而制成对Cu抖有印迹效应的修饰电极。应
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通过共价自组装方法将硫普罗宁修饰在金电极表面形成单分子膜，通过配位键富集Cu2＋后，用十二烷基硫醇封闭电极表面“针孔”，然后移去Cu抖，从而制成对Cu抖有印迹效应的修饰电极。应用循环伏安法、交流阻抗法和差分脉冲伏安法研究了单分子膜的形成、自组装时间、修饰电极对Cu抖的电化学响应及其选择性。结果表明，硫普罗宁能够自组装在金电极表面形成单分子膜并对Cu2＋具有良好的富集作用；修饰电极对Cu2＋具有印迹效应，选择性较好；Cu2＋浓度在0．01～1．0μmol·L-1范围内与其峰电流存在线性关系（r一0
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