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综述了近十年来DUV抗蚀剂体系的进展，特别对DUV区化学增幅抗蚀剂的矩阵树脂、产酸源、阻溶剂作了详细的阐述。并指出，通过改进感光高分子的结构与组成，可以获得性质优良的抗蚀剂。
DUV光致抗蚀剂的研究进展（I）——主体成膜高分子部分
【摘 要】
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综述了近十年来DUV抗蚀剂体系的进展，特别对DUV区化学增幅抗蚀剂的矩阵树脂、产酸源、阻溶剂作了详细的阐述。并指出，通过改进感光高分子的结构与组成，可以获得性质优良的抗蚀剂
【机 构】
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北京师范大学化学系
【出 处】
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信息记录材料
【发表日期】
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2003年1期
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