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研究了氢气在金属体Ni(111)表面的top,bridge,hcp,fec这4个不同位置吸附能以及4个吸附位中H原子距离下层Ni原子层的垂直距离,可知hcp和fcc这2种空洞位的吸附要稳定些,bridge吸附位是非常不稳定的,容易走向hcp位吸附.各吸附位的吸附能分别是Ead-top=-11.622kJ·mol-1,Ead-bridge=-12.036kJ·mol-1,Ead-hcp=-12.047kJ·mol-1,Ead-fce=-12.078kJ·mol-1,表