一种基于双极工艺的纵向多面栅MOSFET的结构与工艺

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【摘要】

：

提出了一种基于双极工艺的纵向多面栅MOSFET的结构和工艺.应用此项技术能够方便地形成双栅、三栅以及围栅等各种多面栅结构;同时,应用体迁移进行载流子传输的纵向结构能够显

【作者】

：

方圆李伟华钱莉

【机构】

：

东南大学

【出处】

：

微电子学

【发表日期】

：

2004年4期

【关键词】

：

双极工艺多面栅 MOSFET 三维集成集成电路 Bipolar technology Multiple-gate MOSFET 3-D integra

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提出了一种基于双极工艺的纵向多面栅MOSFET的结构和工艺.应用此项技术能够方便地形成双栅、三栅以及围栅等各种多面栅结构;同时,应用体迁移进行载流子传输的纵向结构能够显著地改善MOS器件的性能,立体结构更为三维集成提供了发展的基础.工艺模拟证明了该结构的可行性,文中还对实际生产中应注意的一些非理想情况进行了预测和分析.

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