真空蒸发沉积VOPc薄膜及磁场对薄膜结构与性能的影响

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用真空蒸发制备了酞菁氧钒(VOPc)薄膜,并在磁场中进行了热处理.用X光电子能谱、X射线衍射、紫外-可见吸收光谱、原子力显微镜等手段对制备的薄膜进行了表征.结果表明沉积的酞菁氧钒薄膜为α-型,成分接近酞菁氧钒的分子式.制备的薄膜在磁场中进行了热处理,发现磁场使酞菁氧钒薄膜性质发生改变:UV-VIS吸收谱Q带发生红移;XRD谱图衍射峰强度明显增强,峰位略有变化;原子力显微镜(AFM)分析发现晶粒大小无明显变化.以上结果说明磁场的存在使得VOPc分子在热处理过程中发生了定向的排列.
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