【摘 要】
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采用溶胶-凝胶法结合匀胶旋涂工艺在复合基片(Pt/Ti/SiO2/Si)上制备了钴铁氧体(CoFe2O4)薄膜,利用XRD、SEM、VSM分析了薄膜的微结构以及磁性能,研究了不同退火温度对钴铁氧体
【基金项目】
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教育部高等学校博士学科点专项科研基金新教师项目(200803591037);合肥工业大学博士学位专项基金(GD-BJ2008-008),合肥工业大学2009年科技创新群体项目,合肥工业大学2010年大学生创新性实验计划项目(cxsy102096)
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采用溶胶-凝胶法结合匀胶旋涂工艺在复合基片(Pt/Ti/SiO2/Si)上制备了钴铁氧体(CoFe2O4)薄膜,利用XRD、SEM、VSM分析了薄膜的微结构以及磁性能,研究了不同退火温度对钴铁氧体薄膜的结构和磁性能的影响。结果表明,钴铁氧体在500℃时开始形成尖晶石相。随着退火温度的增高,钴铁氧体晶粒逐渐长大,饱和磁化强度和矫顽力逐渐增强,到600℃时,尖晶石相已经非常明显,晶粒尺寸大小均一,饱和磁化强度和矫顽力分别为427.48 emu.cm-3和1224.11 Oe,当退火温度提高到700℃时,晶粒进一步长大,但是薄膜中出现反铁磁相α-Fe2O3,而且薄膜表面出现了气孔和晶粒大小不均匀等缺陷,导致饱和磁化强度和矫顽力下降。
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