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目的探讨三种厚度的硅涂层对氧化锆陶瓷与牙本质瓷结合性能的影响。方法将烧结后的氧化锆陶瓷片分为3组，每组16片，分别采用：（1）100nm硅涂层；（2）200nm硅涂层；（3）300nm硅涂层处理。在3组涂层组试件的结合面烧结牙本质瓷，测试其结合强度，数据用SPSS1．3．0软件进行统计学分析。结果200nm纽结合强度最高，与100nm，300nm组差别有统计学意义（P〈0．05）。结论200nm为硅涂层较适宜的厚度，可以显著提高氧化锆陶瓷与不透明牙本质瓷的结合强度。