【摘 要】
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介绍了用MPCVD方法制备纳米金刚石膜的工艺。用MPCVD方法实验研究了在光学玻璃上镀纳米金刚石膜:膜层厚度为0 4551μm,粒度小于200nm,表面粗糙度小于29 5nm,最大透过率为80%;
【机 构】
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武汉军械士官学校光电技术研究所,武汉军械士官学校光电技术研究所,武汉军械士官学校光电技术研究所,武汉军械士官学校光电技术研究所,武汉军械士官学校光电技术研究所,北京科学技术大学材料学院,北京科学技术大
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介绍了用MPCVD方法制备纳米金刚石膜的工艺。用MPCVD方法实验研究了在光学玻璃上镀纳米金刚石膜:膜层厚度为0 4551μm,粒度小于200nm,表面粗糙度小于29 5nm,最大透过率为80%;平均显微硬度为34 9GPa,平均体弹性模量为238 9GPa,均接近天然金刚石的力学性能。与衬底材料表面应力-2 78GPa相比,具有较好的抗压和耐磨效果。
The preparation of nano-diamond film by MPCVD method is introduced. The MPCVD method was used to study the coating of nano-diamond film on optical glass: the film thickness is 0 4551 μm, the particle size is less than 200 nm, the surface roughness is less than 29 5 nm, the maximum transmittance is 80%; the average microhardness is 34 9 GPa, Body elastic modulus of 238 9GPa, are close to the natural diamond mechanical properties. Compared with the substrate surface stress of -278GPa, it has better compression and wear resistance.
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