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采用低能离子束溅射技术制备了不同厚度的的Ni-Cr合金薄膜,并对128nm厚的Ni-Cr合金薄膜进行了快速热处理.用小角度X射线衍射,扫描电镜,原子力显微镜,α-台阶仪,四探针仪等分别测量了薄膜的结构、形貌、厚度及电子学特性.结果表明:采用低能离子束溅射技术结合快速热处理工艺可以制备性能优良的纳米Ni-Cr合金薄膜,薄膜的厚度同溅射时间成正比;经过350℃及以上温度的快速热处理后,溅射非晶态Ni-Cr合金薄膜发生晶化;128nm厚的Ni-Cr合金薄膜经不同温度的热处理处理后具有不同的表面显微形貌.Ni-Cr合金薄膜方块电阻同溅射时间成指数函数关系.薄膜方块电阻随热处理温度的升高而降低,经450℃×600S热处理后薄膜方块电阻不再变化.