【摘 要】
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本文研究了利用光刻图形转移过程中,湿法化学刻蚀存在的侧向钻蚀,通过对钻蚀程度的控制获得小于0.5μm的线条间隔.
In this paper, we study the lateral undercut by wet c
【机 构】
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上海交通大学微电子技术研究所,上海交通大学微电子技术研究所,上海交通大学微电子技术研究所 上海,上海,上海
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本文研究了利用光刻图形转移过程中,湿法化学刻蚀存在的侧向钻蚀,通过对钻蚀程度的控制获得小于0.5μm的线条间隔.
In this paper, we study the lateral undercut by wet chemical etching during the transfer of photolithographic pattern, and obtain the line spacing less than 0.5μm by controlling the degree of undercutting.
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