【摘 要】
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本文提出将HCl+H_2O_2+H_2O溶液系统作为GaAs晶体的择优腐蚀液,并对它的腐蚀特性进行了一些实验研究,将其应用于半导体双异质结激光器的制造工艺中得到了满意的结果.
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【机 构】
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吉林大学电子科学系,吉林大学电子科学系
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本文提出将HCl+H_2O_2+H_2O溶液系统作为GaAs晶体的择优腐蚀液,并对它的腐蚀特性进行了一些实验研究,将其应用于半导体双异质结激光器的制造工艺中得到了满意的结果.
In this paper, HCl + H 2 O 2 + H 2 O solution system is chosen as the preferred etching solution for GaAs crystals. Some experimental studies on the corrosion behavior of GaAs crystals have been done. The obtained results are satisfactory when applied to the manufacturing process of semiconductor double heterostructure laser.
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