【摘 要】
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1.引言rnPECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)即等离子体增强化学的气相沉积法.是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,等离子
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1.引言rnPECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)即等离子体增强化学的气相沉积法.是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜.(刘昊轩,PECVD制备光学薄膜均匀性控制技术研究:西安工业大学,2014.TM914.4)为了使化学反应能在较低的温度下进行,利用等离子体的活性来促进反应,因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积(PECVD).
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