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利用卢瑟福背散射分析和Ｘ射线衍射技术，研究了热退火对采用气相沉积方法在ＡｌＮ基体上制备的Ｃｒ／Ａｇ薄膜的界面结构的影响，样品的退火温度范围为２００－６５０℃，实验结果表明：当退火温度达到３５０℃时，Ｃｒ／Ａｇ界面开始互扩散，当退火温度超过５５０℃，大量铬原子通过银层向试样表面扩散。
热退火对银／铬薄膜界面结构的影响
【摘 要】
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利用卢瑟福背散射分析和Ｘ射线衍射技术，研究了热退火对采用气相沉积方法在ＡｌＮ基体上制备的Ｃｒ／Ａｇ薄膜的界面结构的影响，样品的退火温度范围为２００－６５０℃，实验结果表明：当退火温度达到３５０℃时，Ｃｒ／Ａｇ界面开始互
【机 构】
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清华大学材料科学与工程系
【出 处】
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真空科学与技术
【发表日期】
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1995年6期
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