,Theoretical Explanation and Improvement to the Flare Model of Lithography Based on the Kirk Test

来源 :中国物理快报(英文版) | 被引量 : 0次 | 上传用户:jeff2047
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The Kirk test has good precision for measuring stray light in optical lithography and is the usual method of measuring stray light.However, Kirk did not provide a theoretical explanation to his simulation model.We attempt to give Kirks model a kind of theoretical explanation and a little improvement based on the model of point spread function of scattering and the theory of statistical optics.It is indicated by simulation that the improved model fits Kirks measurement data better.
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