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透镜阵列光刻法消差原理分析
透镜阵列光刻法消差原理分析
来源 :光电工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ok695304259
【摘 要】
:
透镜阵列光刻法用一个柱面阵列透镜代替常规光刻法中的柱面透镜形成光程差,将由衍射所引起的瞬变图形错开,消除由于光刻模板与被刻光栅之间因间隙引起的衍射误差.用光学传递
【作 者】
:
喻洪麟
王远干
黄尚廉
【机 构】
:
重庆大学光电技术系统国家教育部重点实验室,重庆大学数理学院
【出 处】
:
光电工程
【发表日期】
:
2004年3期
【关键词】
:
透镜阵列
光刻
夫琅和费衍射
衍射误差
Lens array
Photolithography
Fraunhofer diffraction
Diffracti
【基金项目】
:
国家自然科学基金
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透镜阵列光刻法用一个柱面阵列透镜代替常规光刻法中的柱面透镜形成光程差,将由衍射所引起的瞬变图形错开,消除由于光刻模板与被刻光栅之间因间隙引起的衍射误差.用光学传递函数方法说明了透镜阵列消除光刻中衍射误差的原理.实验表明透镜阵列光刻法,可以较好的消除衍射误差,研制出高质量的光栅.
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