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[期刊论文] 作者：葛劢冲,
来源：电子工业专用设备 年份：2003
概述了CMP系统技术的发展历史、发展趋势以及在IC生产中的重要性,介绍了国外CMP设备主要制造厂家的设备型号和性能及CMP设备市场分布和需求,阐述了CMP系统技术的基础研究、关...
[期刊论文] 作者：葛劢冲,
来源：2003中国集成电路产业发展战略研讨会暨中国半导体行业协会IC分会年会 年份：2003
概述了国内IC产业现状、发展前景及其专用设备现状与发展前景,针对我国IC专用设备的现状,提出了发展国产IC专用设备和攻占市场主导地位的几点建议。...
[期刊论文] 作者：葛劢冲,
来源：电子工业专用设备 年份：1997
综述了国外近十多年来双面对准曝光机及其对准技术的发展，介绍了以面曝光机采用的红外对准技术和Ｋａｒｌ Ｓｕｓｓ、ＪＢＡ、ＯＡＩ、ＵＳＨＩＯ Ｉｎｃ、Ｕｎｉｏｎ、Ｅｌｅｃｔｒｎｉｃ Ｖｉｓｉｏｎｓ Ｃｏ。等公司研制的双面曝光机性能及其用途；并预测了今后电力电......
[期刊论文] 作者：葛劢冲,,
来源：电子工业专用设备 年份：2006
由中国半导体行业协会主办，中国半导体行业协会封装分会承办，成都市高新技术开发区、成都信息化办公室、北京菲尔斯信息咨询有限公司及《电子工业专用设备》杂志社协办的“第四......
[期刊论文] 作者：葛劢冲,
来源：电子工业专用设备 年份：2000
概述了微电子封装中引线键合、载带自动键合、倒装芯片焊料焊凸键合、倒装芯片微型焊凸键合等芯片焊接技术及其设备的发展 ,同时报告了世界著名封装设备制造公司芯片焊接设备...
[期刊论文] 作者：葛劢冲,,
来源：电子工业专用设备 年份：2000
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[期刊论文] 作者：葛劢冲,,
来源：电子工业专用设备 年份：2001
极紫外光刻技术(EUVL,λ=13.4 nm)是为小于70 nm特征尺寸图形制作而开发的下一代光刻技术(NGL).在麦迪逊威斯康星大学开发的极紫外光刻系统中,极紫外光源是由电子存储环中的...
[期刊论文] 作者：Keun-YoungKim,葛劢冲,
来源：电子工业专用设备 年份：1999
由掩模、步进机、光刻工艺和计量仪器产生的误差影响着光刻套准。为此,推出一种检查掩模自身精度的新方法,它能为圆片加工提供更实用的基准,并可反映出其它误差量。研究表明,...
[期刊论文] 作者：DeJule,R,葛劢冲,
来源：电子工业专用设备 年份：1999
１引言一年半以前，国际ＳＥＭＡＴＥＣＨ财团将光学光刻的接班技术选择缩小到４种：极紫外（ＥＵＶ）、离子投影光刻（ＩＰＬ）、限角散射投影电子束光刻（ＳＣＡＬＰＥＬ）和ｘ射线光刻技术。已证实，各种技术均具有７０ｎｍ以下特征尺寸的作图能力。然......
[期刊论文] 作者：Ziger,D,葛劢冲,
来源：电子工业专用设备 年份：2000
补偿对准测量方法（ＣＡＬＭ）是视觉测量水平向、垂直向、旋转偏差及倍率误差等步进机对准可校正因素的一种新技术。ＣＡＬＭ技术是根据已曝光在抗蚀剂中的线条间隙图形在显影之前，通过准确偏移光......
[期刊论文] 作者：Butler,H,葛劢冲,
来源：电子工业专用设备 年份：1999
步进扫描曙光设备产生的抗蚀图像质量取决于晶片台掩模后的同步性能，光学系统的质量。要获得高生产效率和０．２５μｍ以下的分辨率能力，需要精心设计的工作台工程技术。...
[期刊论文] 作者：葛劢冲,刘玄博,
来源：电子工业专用设备 年份：2004
概述了光学光刻技术向纳米制造挺进过程中光源、光学系统、照明技术、掩模设计、抗蚀剂、光学邻近效应校正、工作台等方面的进展以及光学光刻技术在大批量生产应用中的优势,...
[期刊论文] 作者：Smith,BW,葛劢冲,
来源：电子工业专用设备 年份：2000
随着光学光刻技术向更小特征尺寸加工推进，必然要重视提高分辨率的方法。通过强、弱离轴方法的照明变形技术正引起极大的关注。特别是研究ｘ、ｙ定向的特征尺寸，照明分布形状可不一......
[期刊论文] 作者：孟晓华, 葛劢冲,,
来源：电子工业专用设备 年份：2008
概述了精密丝网印刷技术工艺和用途,介绍了设备的发展历程、结构特点及工作原理,预测了技术设备今后的发展趋势。...
[期刊论文] 作者：葛劢冲,赵晓东,
来源：电子工业专用设备 年份：2004
概述了晶圆键合技术(WB)和微电子机械系统(MEMS)的新进展.介绍了晶圆键合工艺、技术要求、应用选择以及对MEMS的作用;展示了MEMS制造技术和应用前景....
[期刊论文] 作者：童志义,葛劢冲,
来源：电子工业专用设备 年份：2002
介绍了LCD器件市场及发展现状、器件类型和生产线概况。根据LCD器件对曝光设备的工艺特点，重点介绍了几种用于LCD制造的曝光设备，结合LCD器件目前的发展趋势，讨论了曝光设备面临......
[期刊论文] 作者：刘卫平,葛劢冲,,
来源：电子工业专用设备 年份：2012
介绍了一种光刻机超高压汞灯电源,采用模拟功率反馈控制,有效提高了光源稳定性;重点阐述了恒功率控制的原理和主要电路结构。...
[期刊论文] 作者：葛劢冲,童志义,
来源：电子工业专用设备 年份：2002
介绍电子专用设备国产化的历史，现状和展望，针对高新技术国产设备市场份额小而提出了拓展国产市场份额的几点建议。...
[期刊论文] 作者：童志义,葛劢冲,
来源：电子工业专用设备 年份：2002
介绍了LCD器件类型和生产线概况及器件市场与发展现状 ,根据LCD器件对曝光设备的工艺特点 ,重点介绍了几种用于LCD制造的曝光设备 ,结合LCD器件目前的发展趋势 ,讨论了曝光设...
[期刊论文] 作者：童志义,葛劢冲,
来源：电子工业专用设备 年份：2001
非光学下一代光刻技术的缓慢进展和国际半导体技术发展规划(ITRS)的加速,使光学光刻肩负着IC产业的重任,进一步向亚波长图形领域进军.为此,人们开发了大量的光学光刻扩展技术...
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