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[期刊论文] 作者：蒋勐,
来源：神州 年份：2020
积极运用信息化手段,自觉践行精准化、规范化理念,锻造高素质、专业化离退休管理干部队伍,切实推动离退休工作高质量发展。...
[报纸论文] 作者：蒋勐,
来源：苏州日报 年份：2018
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[学位论文] 作者：蒋勐婷,,
来源：河北工业大学 年份：2015
随着集成电路发展到GLSI阶段,多层金属互连层数高达10层以上,为达到光刻要求的纳米级精度,每层必须经过三次平坦化(铜膜的粗抛及精抛平坦化和阻挡层平坦化)。化学机械平坦化...
[期刊论文] 作者：蒋勐,杨羚,
来源：环境保护 年份：2009
2009年是我国确立作为现行环境管理制度基础的排污收费制度30周年，也是苏州市依据《中华人民共和国环境保护法（试行）》对超标排污收费的原则性规定在全国首创企业向环境排放污染......
[期刊论文] 作者：蒋勐辉,
来源：语文世界(小学版 ) 年份：2008
2008年北京奥运会： 您好！我是一位小学五年级的学生，现在我有许多话要对您倾诉。 北京奥运会，您可知道？中国人民正日夜盼望着您的到来呢！2001年7月13日，当前奥委会主席萨马兰奇先生宣布：2008年第29屆奥运会将在中国——北京举行，全中国都沸腾了。这是一个令人激动......
[期刊论文] 作者：鲁郁陶,蒋勐,,
来源：中国住宅设施 年份：2010
通过对山东省直机关办公建筑的能源审计，得到公建能耗数据。同时对结果进行分析，发现外窗的窗框和玻璃对能耗有较大影响，建筑能耗呈逐年下降趋势，研究为机关办公建筑节能降耗工作......
[期刊论文] 作者：鲁郁陶,蒋勐,
来源：城市建设 年份：2010
本文结合近几年笔者参建的工程,阐述了屋面高聚物改性沥青油毡的施工技术及质量控制措施.屋面工程是房屋建筑的重要分部工程,其施工质量直接影响建筑物的耐久性和使用功能,因...
[期刊论文] 作者：蒋勐婷,刘玉岭,,
来源：Journal of Semiconductors 年份：2004
Chemical mechanical planarization(CMP) is a critical process in deep sub-micron integrated circuit manufacturing. This study aims to improve the planarization c...
[期刊论文] 作者：沈浩,蒋勐辉,王梓滔,李枝军,
来源：南京工业大学学报:自然科学版 年份：2020
随着高强螺栓的出现以及制造工艺的进步,螺栓连接在钢桁梁桥中逐渐占据主体地位,然而钢桁梁桥螺栓脱落的情况较为严重。本文对预紧力、螺栓腐蚀和螺栓缺失等因素对螺栓受力特...
[期刊论文] 作者：袁浩博,刘玉岭,蒋勐婷,刘伟娟,陈国栋,,
来源：微纳电子技术 年份：2014
研究了一种碱性铜抛光液,其基本组分是硅溶胶磨料、新型FA/O V型螯合剂、非离子表面活性剂和氧化剂(H2O2)。在压力为2 psi(1 psi=6.895 kPa)、抛头转速与抛盘转速分别为97和1...
[期刊论文] 作者：陈国栋,刘玉岭,蒋勐婷,刘伟娟,袁浩博,,
来源：微纳电子技术 年份：2014
主要研究了碱性抛光液各组分体积分数对其有效存储时间的影响。实验中每隔两个月测试了抛光液的pH值、平均粒径和Cu膜去除速率等参数随存储时间的变化值。研究表明:FA/O螯合...
[期刊论文] 作者：袁浩博,刘玉岭,蒋勐婷,刘伟娟,陈国栋,,
来源：Journal of Semiconductors 年份：2014
We propose the action mechanism of Cu chemical mechanical planarization(CMP) in an alkaline solution.Meanwhile,the effect of abrasive mass fraction on the coppe...
Evaluation of planarization performance for a novel alkaline copper slurry under a low abrasive conc
[期刊论文] 作者：蒋勐婷,刘玉岭,袁浩博,陈国栋,刘伟娟,,
来源：Journal of Semiconductors 年份：2014
A novel alkaline copper slurry that possesses a relatively high planarization performance is investigated under a low abrasive concentration.Based on the action...
[期刊论文] 作者：袁浩博,刘玉岭,蒋勐婷,陈国栋,刘伟娟,王胜利,,
来源：Journal of Semiconductors 年份：2015
For improving the polishing performance, in this article, the roles of a nonionic surfactant(Fatty alcohol polyoxyethylene ether) and H2O2 were investigated in...
[期刊论文] 作者：蒋勐婷,刘玉岭,王辰伟,袁浩博,陈国栋,刘伟娟,,
来源：微纳电子技术 年份：2014
研究了三种不同稀释倍数的弱碱性铜粗抛液,原液采用商用FA/O型铜抛光液,稀释倍数分别为1倍、3倍和5倍。基于化学机械抛光(CMP)作用机理,在相同工艺条件下分析了三种粗抛液对...
[期刊论文] 作者：刘伟娟,刘玉岭,王辰伟,袁浩博,陈国栋,蒋勐婷,,
来源：微纳电子技术 年份：2014
采用自主研发的碱性铜抛光液,在E460E机台上研究了不同磨料质量分数对铜和钽抛光速率与膜厚一致性的影响;分析了磨料质量分数为2%,2.8%和3.6%时,膜厚一致性对平坦化的影响。...
[期刊论文] 作者：陈国栋,刘玉岭,王辰伟,刘伟娟,蒋勐婷,袁浩博,,
来源：Journal of Semiconductors 年份：2014
The stability of a novel low-pH alkaline slurry(marked as slurry A, pH D 8.5) for copper chemical mechanical planarization was investigated in this paper. First...
[期刊论文] 作者：刘伟娟,刘玉岭,王辰伟,陈国栋,蒋勐婷,袁浩博,程鹏飞,,
来源：Journal of Semiconductors 年份：2014
The copper removal rate and uniformity of two types copper slurries were investigated, which was performed on the 300 mm chemical mechanical planarization (CMP)...
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