光刻掩模相关论文
介绍一种制作无铬光刻掩模的简易方法,即用光刻胶膜层直接作为掩蔽层在透明基片上制作光刻掩模.其基本原理是利用光刻胶对不同波长......
本文利用电火花加工和光刻掩模技术两种加工方法在钛合金表面制备了多种微结构，并利用球盘式摩擦实验机研究了其在水润滑的条件下的......
本文利用电火花加工和光刻掩模技术两种加工方法在钛合金表面制备了多种微结构，并利用球盘式摩擦实验机研究了其在水润滑的条件下的......
EUV光刻掩模是EUV光刻成像系统的重要组成部分。不同于DUV光刻掩模，EUV掩模为反射式掩模，且掩模厚度远大于入射光波长。在斜入射光照......
光学光刻中的邻近效应杰严重降低光刻图形的质量，是妨碍大规模集成电路高集成度发展的一个重要原因，光学邻近校正已成为亚微米光刻掩......
该文叙述了适用于微机械制造的一种新的工艺－－ＬＩＧＡ工艺的技术组成。着重介绍了ＬＩＧＡ工艺中Ｘ射线光刻掩模的制作步骤和方法。......
大家好,骑士这次给大家一点惊喜,让大家看看微处理器的核心制造过程。呵呵,拿好螺丝刀,找块PⅢ,我们把它拆给大家看看。......
激光直写系统是国际上９０年代制作集成电路光刻掩模版的新型专用设备。微细加工光学技术国家重点实验室从加拿大引进了国内第一台激光......
高精度ＬＩＧＡ掩模研究洪义麟，付绍军，田扬超，陶晓明（中国科技大学国家同步辐射实验室）０引言作者通过改进工艺、采用图形发生器直接在掩模基片上......
介绍了利用北京正负对撞机（ＢＥＰＣ）同步辐射Ｘ射线光刻装置，进行ＬＩＧＡ工艺技术深结构光刻实验研究，详细论述了Ｘ射线光刻使用的掩模制备过程及掩模镀金......
半导体集成电路制造中,光刻工艺是整个制造过程中的核心技术.而光刻掩模(Reticle,Photomask)则为光刻技术中的最为关键的部件.随着......
激光直写系统是制作光刻掩模和ASIC器件的新型专用设备。微细加工光学技术国家重点实验室引进了男内第一台激光直写系统，利用这台系......
<正> 1 概述本文介绍一种在同一块掩模板上制作多个掩模工程的新型掩模板设计方法-MLM(Multi-Layer Mask)。该方法可以实现集成电......
期刊
随着近代光学尤其是二元光学的迅速发展，光学元件及光学仪器都发生了非常深刻而巨大的变化。光学元件开始向多台阶方向发展。近年来......
在氧化气氛中用分解五羰基铁的方法在玻璃基片上形成2600埃厚的Fe2O3薄膜。采用标准的光致抗蚀剂工艺以稀盐酸作腐蚀剂,获得具有1......
激光直写系统是国际上９０年代制作集成电路光刻掩模版的新型专用设备。微细加工光学技术国家重点实验室从加拿大引进了国内第一台激光......
