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光刻掩模优化相关论文
基于像素表征的光刻掩模优化方法研究
掩模优化技术是一种推进光刻分辨率极限,扩展现有光刻机服役寿命的重要分辨率增强技术。基于像素表征的掩模优化方法在实际应用中......
学位
光学临近效应
分辨率增强技术
光刻掩模优化
边缘距离误差
掩模可制造性
鲁棒性
瀑布式多重网格算法
部分相干照明下的光刻掩模图形优化方法研究
随着光刻关键尺寸的下降,由于光学衍射效应造成的光学临近效应对光刻图形造成的畸变会导致光刻的输出图形与目标图形有一定差距,甚至......
学位
光刻掩模优化
部分相干成像
光学临近校正
逆光刻技术
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