掩模可制造性相关硕士博士期刊学术论文 - 信丰网

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掩模优化技术是一种推进光刻分辨率极限,扩展现有光刻机服役寿命的重要分辨率增强技术。基于像素表征的掩模优化方法在实际应用中......

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光学临近效应分辨率增强技术光刻掩模优化边缘距离误差掩模可制造性鲁棒性瀑布式多重网格算法

纳米级集成电路计算光刻技术研究

随着芯片的集成度越来越高,特征尺寸越来越小,集成电路已经进入纳米级时代。这必将对集成电路的制造技术提出更高的要求。由于光源......

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分辨率增强技术光学邻近校正计算光刻技术掩模可制造性工艺窗口制程变化带混合共轭梯度

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