掩膜版相关论文
关联成像作为一种新型的计算成像技术,使用不具备空间分辨能力的单像素探测器,结合空间光场调制技术,运用关联算法重构出目标的二......
针对现有激光化学气相沉积设备在寻找掩膜版缺陷点时存在镜头移动行程长、镜头频繁失焦的问题,采用基于2-opt邻域搜索的蚁群算法来......
利用[100]晶向硅在KOH：H2O中经过两步各向异性腐蚀制作各种微光学结构。此方法的关键步骤是掩膜版图的设计。研究中通过计算机编程......
无论是在半导体还是在微电子行业,掩膜版的制作都被视为一项非常重要的环节.随着科技及制造业的发展,掩膜版的制作技术也由一开始......
掩膜版是半导体生产的重要关键材料之一,掩膜版在自身生产去除光刻胶和清洗工艺时或使用时,会产生雾状缺陷,这些雾状缺陷在曝光时......
本文介绍了一种利用自对准硬掩膜版制备石墨烯场效应管的方法.自对准掩膜版由MEMS工艺制成.利用此硬掩膜版,可以避免在场效应管电......
掩膜版制备是微波集成电路制作的重要环节。传统掩模版制作方法存在精度差、效率低等缺点，本文通过激光光绘技术在MIC掩模版制作中......
微压力传感器由于体积小、重量轻、精度高、成本低等特点应用很广泛,在某些领域已取代传统的传感器,进一步研制小体积高精度的传感......
该论文集收集了125篇文献，分为四个部分。第一部分为集成光学的材料、工艺、测试，第二部分Ⅲ—Ⅴ族材料、工艺、器件，第三部分为无源......
该文报道用２４８ｎｍ准分子激光和振幅掩膜版在高压氢载光纤上制作长周期光纤光栅并对光栅的稳定性作了定性的研究。......
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
站在微电子领域,审视生物芯片中的可行性研究课题,光诱导原位合成掩膜版的优化设计是一个很值得重视的研究方向.早期使用贪婪算法,......
光刻胶、掩膜版和光刻机一直以来是构成光刻的三要素,掩膜版的技术水平直接影响着半导体光刻技术的发展,而目前几乎所有平板显示器......
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
针对EM-5009b激光图形发生器出现漏曝、曝光移位问题，通过实验和分析。总结了产生漏曝、曝光移位现象的一些原因。......
V．Tech．公司开发了6、7代TFT-LCD生产线的不用大尺寸掩膜版的曝光机。该曝光设备只要设定基板第一层的图形之后，在不使用大尺寸掩膜版......
CRT荫罩制造工艺的基础技术是光刻腐蚀.将应用于制造荫罩的精密光刻精细腐蚀技术引伸应用到平板显示、微电子、微机械等领域,可以......
研制了一种与掩膜光刻机相配套的新型掩膜管理控制系统。系统硬件由1个4自由度机械手、2个版库、粗预对准机构、精细预对准机构、P......
高分辨率独立光掩模相位测试系统Phame能够对193纳米的光掩模进行测试。这套系统用于测量和分析高端相移掩膜版的实际相移表现。它......
常规光刻方法通过利用电路设计每一层的掩膜版来进行曝光和显影．从而形成图案。佐治亚理工学院（GeorgiaInstitute of Technology）的研......
对于极紫外（EUV）光刻技术而言，掩膜版相关的一系列问题是其发展道路上必须跨越的鸿沟．而在这些之中又以如何解决掩膜版表面多层抗反射......
雾状缺陷（Haze defect）是残留在掩膜版上的有机物或无机物，它们在曝光时有可能会生长变大。在光刻波长为248nm时．这类缺陷尚不会引起太......
2019年1月23日,位于成都市高新西区的成都路维光电有限公司(简称“成都路维”)迎来了自开工建设以来的重要时刻:国内首条第11代高......
<正> 电子束曝光技术是一种日益完善的超微细图形加工技术,它被广泛应用于航天通讯国防军工及超大规模集成电路等诸多领域。电子束......
主要研究了硬盘磁头滑块二级台阶的刻蚀实验。首先研究了ICP刻蚀的刻蚀原理,然后根据二级台阶掩模版的设计要求,设计出掩膜版的图......
清溢精密光电(深圳)有限公司(以下简称清溢)创立于1997年8月,是中国首家集研究、设计、生产于一体,制作大面积高精度掩膜版的专业......
随着集成电路制造技术的进步,尽管CD已经接近物理和理论极限,其继续减小的趋势依旧延续着。无论如何,目前的光刻技术将在未来的几......
从事半导体设备研发和制造并有所成就的本土公司本来就不多．而专注于半导体检测设备的公司更是屈指可数．上海泽尔尼仪器有限公司就是......
提到半导体,相信大家都不会陌生了。从今年中兴事件开始,半导体行业,芯片这些词被频频推到公众的眼前。这篇文章将会是半导体产业......
掩膜版在生产、使用和保存的过程中,均有可能产生缺陷。掩膜版上缺陷的存在,会直接影响到每一个芯片的性能,严重者可能会造成整批......
为了缩短光刻掩膜版循环周期，控制成本，日本掩膜版制造商凸版印刷（Toppan Printing）日前表示，作为业界第一个开发32nm光掩膜制造工艺的......
1999年9月6日,北京-北京捷德智能卡系统有限公司 (G&D)的中国之星(STARChina)卡硬掩膜版本日前通过了中国人民银行银行卡信息交换......
本文提出了一种新颖的可获取差动检测信号的集成化硅微光纤传感器结构。该结构使困难的硅微光纤传感器的装调及封装过程大为简化，能......
激光图形发生器是一种用于图形转化的硬件接口设备,直接影响着掩膜版的加工质量。激光图形发生器曝光过程中出现的曝光偏移、曝光......
随着工业技术的不断发展与完善,掩膜版在光刻领域应用十分广泛。然而制造加工以及运送过程中,表面易积累灰尘杂质,影响导体或半导......
在65nm及以下节点，掩膜版的清洗变得更为关键，需要采用新的方法和技术。在传统的湿法工艺化学顺序中，首先用硫酸／双氧水混合液，然后是氨......
硅微压力传感器由于体积小、重量轻、精度高、成本低等特点应用很广泛,在某些领域已取代传统的传感器.进一步研制小体积高精度的传......
