沉积反应相关论文
以硼氢化物为还原剂化学镀金的槽液用周期地加入其组分进行操作。由于硼氢化物离子产生水解,主要生成了过量的偏硼酸盐,所以槽液使......
一二叠三叠纪(P-Tr ) 连续碳酸盐外形的边界节，很好在浅 non-microbialite 碳酸盐外形通过大 P-Tr 转变记录了关於生命、环境的过程......
低温自催化镀镍实质上就是在水溶液中自催化还原镍离子的过程。它是利用镍盐溶液在强还原剂次磷酸盐的作用下,使镍离子还原成金属......
用纯氨做原料在钢铁表面进行化学气相沉积氮化钛时,可使沉积温度降到570℃以下。高速钢刀具经沉积后不需再行淬火处理。本文介绍了......
采用真空混料沉积反应方法在金刚石表面制得了Ｔｉ镀层，利用Ｘ射线衍射仪、ＫＹＫＹ－１０００Ｂ扫描电镜等对镀层进行分析测试，结果表明，镀Ｔｉ层与金刚石表面发生界......
用 Solgasmix- PV软件包对沉积反应进行热力学计算。结果表明 ,用原位 CVD方法、采用三元卤化物活化剂 ,在热力学上可以同时沉积铬......
本发明是有关一种纳米碳管的合成方法，尤其是有关一种通过低温热化学气相沉积的方式在一含有三明治架构活性触媒系统的基材上直接成......
基于炭化层结构是存在致密层的非均匀多孔结构这一试验现象,建立了考虑沉积反应的多孔介质体烧蚀模型.重点突出了导致致密层形成的......
通过测定不同温度下的化学镀Ｎｉ－Ｐ、Ｎｉ－Ｃｕ－Ｐ沉积反应速率，计算出两个沉积反应的表观活化能。尝试把Ｂｏｃｋｒｉｓ方程式应用于化学镀沉积反应的计算中。通过测......
Three-dimensional model of chemical vapor deposition reaction in polysilicon reduction furnace was established by consid......
1 前言化学镀镍由于具有镀层厚度均匀、抗蚀性和耐磨性好、操作方便等优点,在众多的工业领域中得到日益广泛的应用.在施镀过程中,......
薄膜沉积工艺是半导体制造、MEMS、表面工程等领域的基础工艺。等离子体增强化学气相沉积（PECVD）是重要的薄膜沉积工艺方法之一，其工......
综述了喜马拉雅造山带沉积反应研究的新进展，通过研究认为喜马拉雅的隆升历史是：１８－１７Ｍａ主要平等互利或开始，１０．９－７．５Ｍａ和０．９Ｍ至现今为两次隆升高峰期，在８Ｍａ左右......
AlN 电影被在各种各样的底部电极上劈啪作响的反应收音机频率 RF 扔，例如艾尔， Ti，瞬间， Au/Ti，和 Pt/Ti。AlN 薄电影的取向上的底层金......
一种表面处理系统，在其中，将用于一沉积反应的气体注入一沉积室中并且施加电能，以便形成在一个或多个表面处理物体上形成沉积层的沉积......
<正> 研究金属有机化合物至少有30年历史,但主要用作催化剂,以10~3或10~6数量级加快化学反应速度。预期,开辟金属有机化合物的新应......
<正>薄膜沉积工艺是半导体制造、MEMS、表面工程等领域的基础工艺。等离子体增强化学气相沉积(PECVD)是重要的薄膜沉积工艺方法之......
