真空腔室相关论文
传统的直接模拟Monte Carlo(DSMC)程序以直角网格为基础,在计算复杂的流动边界时不可避免地会带来一定误差。非结构网格虽然能够贴......
喷淋板通常用在化学气相沉积等真空腔室中,其流体动力学特性是决定真空腔室性能的关键因素之一。本文利用自主开发二维直接模拟Mon......
集成电路(IC)装备工艺腔室内流场的均匀性是影响镀膜质量的关键因素。本文通过控制真空腔室入口处N_2流量(140,230,320 mL/min(标......
文章设计一种300mm硅片真空传输系统,满足市场对硅片传输过程高精度,高洁净度,高效率的需求。其中硅片传输腔室采用真空设计,并优......
激光多普勒测速技术被广泛应用于流速测量领域。在搭建好的真空气流检测实验平台基础上,运用二维激光多普勒测速仪对真空腔室进行......
腔室气密性是影响集成电路（IC）装备真空腔室内流场均匀性的重要因素，腔室漏率数量级不高于10^-6Pa·m^3／s、极限真空度数量级不高......
针对目前六面袋真空软包装产线中工序衔接不流畅、生产效率低等问题,课题组在现有工艺路线基础上提出了一种通过往复转位充填装置......
在半导体制造领域中,IC装备工艺腔室流场的均匀性决定镀膜的质量。本文运用二维激光多普勒测速仪(LDV)对真空腔室进行内流场测量,......
期刊
工艺腔室内气体流动状态对于目标产品的性能影响极为重要。为研究腔室压强、进气量、温度、间距等因素对腔室内气体流速的影响,利......
等离子体增强型化学气相沉积法(PECVD)设备具有高真空特点,容易发生漏气(Leak)事故,为预防事故发生,对PECVD腔室构造、成膜原理及......
