等离子体负载相关论文
磁控溅射作为一种镀膜工艺，在物体上镀制保护膜，增强物体的耐磨、抗氧化和抗腐蚀性能。由直流磁控溅射发展到非平衡磁控溅射，随着材料......
磁控溅射技术具有轰击粒子能量高、制备的薄膜致密性和均匀性好、便于大面积成膜等优点被广泛应用于能源、材料、物质、环境等诸多......
为满足等离子体离子辐照和复合表面改性处理技术的发展,提出了基于Marx发生器,通过调节驱动信号延时,实现放电IGBT开关不同时导通,......
一种脉冲负偏压电源是由多个脉冲分量形成的电路串联构成,脉冲的频率和占空比直接在高压侧调节.介绍了电源的结构和关键技术,并结......
为抑制负载扰动对恒流控制的影响,针对等离子体负载需求,提出一种基于前馈控制的等离子体电源恒流控制策略。首先根据恒流源的开环......
将等离子体技术应用于金属加工或表面处理可以获得传统技术难以达到的加工效果,同时还具有高效、环保和工序简单等优势,因而成为当......
脉冲磁控溅射电源是实现绿色磁控溅射镀膜的关键设备之一，而等离子体负载的非线性特性会直接影响电源的输出性能。此处以TMS320LF24......
脉冲偏压电弧离子镀是近年来离子镀技术的一个重要发展方向,但目前制约脉冲偏压电弧离子镀技术发展的一些问题亟待解决。本论文就......
极紫外光刻技术被认为是下一代最有前途的光刻技术之一。在其关键的EUV光源方面,DPP EUV光源由于其多方面的优点受到国际上的广泛......
