钨化学机械抛光相关论文
提出了一个用于钨CMP时侵蚀的模型，用以解释通常意义所不能解释的侵蚀现象。基于理论分析，该模型与试验数据能很好地吻合。赝侵蚀是......
本文对目前超大规模集成电路钨化学机械抛光(CMP)原理及工艺的一些问题进行了分析,并对用于钨CMP的抛光液进行了研究.......
介绍了深亚微米CMOS集成电路中研制的关键技术--钨化学机械抛光,比较了化学机械抛光技术与传统反应离子回刻法在金属层与层之间的......
