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钥孔现象相关论文

CMOS工艺中钨的化学机械抛光技术

介绍了深亚微米CMOS集成电路中研制的关键技术--钨化学机械抛光,比较了化学机械抛光技术与传统反应离子回刻法在金属层与层之间的......

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集成电路互连钨化学机械抛光钨插塞凹陷过蚀钥孔现象 IC interconnection tungsten CMP tungsten plug dish

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