评价了先进的 1 93nm抗蚀剂材料在全视场步进扫描系统中的光刻性能。对单层和双层抗蚀剂进行了性能和复杂性的比较。通过对最佳照......

This paper presents a brief overview of the Applied Centura DPS system,configured with silicon etch DPS Ⅱ chamber, with......

从化学增强型抗蚀剂（ＣＡＲ）到抗反射涂层（ＡＲＣ），远紫外（ＤＵＶ）光刻技术需要特殊的温度条件。本文阐述了解决这些问题的方案，讨论了监控及分析生产用抗蚀剂......