采用空心阴极放电离子镀（ＨＣＤ）技术，在硅基片上沉积ＣｒＮ薄膜．用Ｘ射线衍射技术（ＸＲＤ）及透射电镜（ＴＥＭ）分析了氮气分压对沉积的ＣｒＮ薄膜结构的影响．用电子探针（ＥＰＭＡ）及......