x)Ge_xSi相关论文
利用Si1-xGex的等离子体色散效应,对1.3μm和1.55μm光通信波长的Si基Si1-xGex波长信号分离器进行了理论分析,设计了结构参数和电学参数,并分析了其分支特性.
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对1.55μm波长的Si1-xGex光波导和Si1-xGex/Si多量子阱(MQW)红外探测器的集成器件结构进行了系统的分析和优化设计。优化结果为:1)对Si1-xGex光波导,Ge含量x=0.05,脊宽、高和腐蚀深度分......
用GSMBE(GasSourceMolecularBeamEpitaxy)技术在国内首次研究了应变Si1-xGex/Si异质结材料的生长.并用X射线双晶衍射技术对样品进行了......
对分子束外延生长带边激子发光的Si1-xGex/Si量子阱结构,通过Si离子自注入和不同温度退火,观测到深能级发光带和带边激子发光的转变.Si离子注入量子阱......
根据MBE实际生长条件,采用在应变Si1-xGex/SiMQW结构中同应变相关的Ge的扩散系数,用生长过程的移动边界条件,求解了Ge在Si1-xGex/SiMQW......
对1.55μm波长的Si1-xGex光波导开关和Si1-xGex/Si红外探测器的集成结构进行了系统的理论分析和优化设计。设计结果为:(1)对Si1-xGex光开关,Ge含量x=0.05,波导的内脊高、脊宽和腐蚀......
利用Si分子束外延技术,及硅平面器件工艺,制作了工作温度大于液氮温度的SiGe/Si异质结内光电子发射红外探测器。探测器的黑体探测......
本文分析了一个单量子阱的随频率变化的G-V特性,提出用电导法测量量子阱的能带偏移.通过对一个Si1-xGex/Si单量子阱的实验G-V曲线的分析,验证了这一方法......