介质光学膜相关论文
介绍了电子回旋共振等离子体化学气相沉积（简称ECRplasmmaCVD）法淀积980nm大功率半导体激光器两端面光学膜的工艺条件，探索了膜系监控......
结合ＥＣＲ ｐｌａｓｍａ ＣＶＤ法淀积器件介质光学膜的需要，对其淀积非晶硅的工艺进行了系统的研究，并对淀积的硅膜进行了光学性质和其它的物理性质的研究......
用双源电子束蒸发的方法，在K9玻璃基片上蒸镀Si和SiO2的混合膜．通过改变两种膜料蒸发速率的比例，得到的各个膜层，其折射率大小在两种膜......
采用双源电子束蒸发的方法，在K9玻璃基片上蒸镀Si和SiO2得到的混合膜层，折射率不仅可调，而且比Si膜要高。用原子力显微镜（AFM）分别对单......
