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刻蚀槽形貌演化相关论文
CF4/Ar感性耦合等离子体增强准原子层刻蚀SiO2多尺度研究
等离子体刻蚀是半导体集成电路(Integrated Circuit,IC)制造工艺中的重要环节,近年来随着IC集成度的不断提高,特征尺寸不断缩小,此外......
学位
原子层刻蚀
离子能量角度分布
刻蚀槽形貌演化
深宽比依赖效应
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