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硅基深宽比结构与SiO2薄膜的干法刻蚀方法研究
文中研究了贯穿刻蚀硅基直壁沟槽及沟槽底部SiO2薄膜过刻蚀的深反应离子刻蚀(DRIE)工艺过程。首先,研究了DRIE刻蚀钝化时间比(T(SF6)∶T......
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