射频等离子体增强化学气相沉积相关论文
氢化微晶硅薄膜材料具有良好的电学特性和稳定的光学特性，已经成为国际光伏领域的研究热点，氢化微晶硅薄膜太阳电池制备技术被公认为......
采用射频等离子增强化学气相沉积(RF-PECVD)技术,在较高的射频功率和沉积气压条件下,通过改变硅烷浓度和衬底温度等参数,以Corning......
采用RF-PECVD法在锗（Ge）基片上沉积类金刚石（DLC）薄膜,研究了气体流量和气压对沉积区域均匀性的影响,以及基片厚度与沉积时间的关系。......
采用RF-PECVD技术,通过改变反应气体的硅烷浓度制备了一系列不同晶化率不掺杂的硅薄膜材料,研究了工艺变化对材料结构的影响及材料......
做氮的氟化的像钻石的碳(FN-DLC ) 电影被收音机频率血浆在单个水晶硅底层上准备在有象来源气体的 CF4， CH4 和氮的不同扔的条件下......
利用射频等离子体增强化学气相沉积技术在不锈钢表面制备了含氢非晶碳膜．采用Raman光谱、红外光谱、x射线光电子能谱和原子力显微镜......
非晶含氢碳膜(amorphous hydrogenated carbon a-C:H films)在力学、热学、电学、化学、光学等方面具有优异的性能,被广泛应用于诸......
采用射频等离子体，以乙二醇二甲基醚（Ethylene Glycol Dimethyl Ether）为聚合单体，用氩气作为工作气体，合成类聚氧化乙烯（PEO-like）官能聚......
We proposed a new way to synthesize a nanocomposite consisted of cementite Fe3C nanoparticles and amorphous carbon by ra......
采用射频等离子体增强化学气相沉积技术,以N2和SiH4作为反应气体,在P型硅基片上进行SiNx薄膜的沉积.使用椭偏仪对薄膜厚度和光学常......
采用射频等离子体增强化学气相沉积（RF-PECVD）法在低温、低功率的条件下制备了一系列本征硅薄膜,研究了硅烷浓度（CS）对薄膜微结构、光......
采用射频等离子体增强化学气相沉积技术制备了纳米晶硅粒子,并对其溶液发光的稳态和瞬态特性进行了研究。稳态光致发光结果显示,新......
薄膜硅/晶体硅异质结（HIT）电池以其制备工艺简单、低成本、高效率和高稳定性等优势迅速成为国际光伏领域的研究热点。截至目前,仍然......
用 Ｂ２Ｈ６和 ＳｉＨ４作反应气体，通过射频等离子体增强化学气相淀积（ＲＦ－ＰＥＣＶＤ）方法，在 Ｓｉ（１００）面上沉积生长ＢＮ薄膜，用Ｓ－５２０扫描电子显微镜对所得薄膜进行观测，并用红外透射光......
讨论用射频等离子体增强化学气相沉积(RFPECVD)工艺,在室温下实现在1Cr18Ni9Ti不锈钢基底上镀类金刚石(DLC)膜.为提高DLC膜的结合......
本文利用射频等离子体增强化学气相沉积（RF-PECVD）技术，以CH4、H2为气源，Ar-为稀释气体，通过增加过渡层和改变输入功率和气体成分比例（CH......
采用射频等离子体增强化学气相沉积技术,利用二氧化碳（CO2）、氢气（H2）、硅烷（SiH4）和乙硼烷（B2H6）作为气源,制备出一系列p型氢化硅氧薄膜.......
本课题采用射频等离子体增强化学气相沉积法和射频磁控溅射两种沉积方法在聚碳酸酯(PC)片上沉积类金刚石碳膜(DLC)。利用X射线衍射......
石墨烯是一种仅单原子厚度的单层石墨,具有六方蜂巢状晶格结构,由于其独特的微观结构,使其具有优异的物理、化学特性。石墨烯具有......
学位
晶体硅薄膜由于具有稳定、高效、生产成本低的特点,已经成为一种很有潜力的光伏太阳能材料,引起了当今世界范围的广泛关注。如何提......
首先采用射频等离子体增强化学气相沉积技术制备了电导率为0.13 S/cm、晶化率为50%的p型微晶硅,然后制备了μc-Si∶H(p)/c-Si(n)异......
本文用射频等离子体增强化学气相沉积法(RF-PECVD)方法在聚碳酸酯(PC)片上沉积含氢碳膜。利用激光拉曼光谱(Raman)检测薄膜的微观......
用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)方法在聚碳酸酯(PC)片上沉积类金刚石(DLC)薄膜,用射频磁控溅射方法制备过渡层以提高膜......
采用热丝化学气相沉积（HWCVD）和射频等离子体化学气相沉积（RF-PECVD）相结合的技术,在普通载玻片和聚酰亚胺衬底上沉积制备微晶硅薄膜。......
