平面磁控溅射相关论文
本文介绍了声表面波(SAW)卷积器/存储相关器用优质氧化锌(ZnO)压电膜的制备方法。用平面磁控溅射技术溅射ZnO陶瓷靶沉积出了激励SA......
各种超高频电子整机需要高性能的表声波压电器件。介绍了新的压电薄膜——ZnO/AIN复合压电薄膜的制速、结构和性能,并给出主要研制......
该论文选择典型的二元Fe-20Cr合金,通过超声喷丸(USSP)技术使其表面纳米化,通过平面磁控溅射技术在纯铜基体上获得Fe-20Cr的纳米涂......
1引言现在．采用单靶平面磁控溅射原位退火制备高质量的YBCO高Tc超导薄膜的工艺已经很成熟。在制备YBCO超导薄膜的过程中，除了成膜温......
利用电化学方法与表面分析技术,考察了平面磁控溅射Fe-20Cr纳米涂层的腐蚀电化学性能及耐蚀机制.研究表明,尽管溅射纳米涂层钝化膜......
设计制作了方便实用的圆形直流平面磁控溅射靶源，给出了铝靶表面磁场的分布曲线和在氩气压为６×１０＾－１Ｐａ下的铝靶溅射的伏－安特性曲线，用Ｘ射......
ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清......
用高淀积速率R.F.平面磁控溅射已制备出具有极好结晶取向和表面平整度的ZnO压电薄膜.通过X-射线衍射,扫描电子显微镜,反射式电子衍......
片式薄膜电阻一般采用平面磁控溅射NiCr薄膜沉积在三氧化二铝陶瓷基片上。然后通过光刻工艺来实现电阻图形，通过使用扫描电子显微镜......
一、前言在半导体器件工艺中,随着大规模集成电路向超大规模集成电路的发展,器件的尺寸不断缩小,而片子的面积不断增大,这样金属-......
