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随着微纳米技术的快速发展,器件的极限尺寸将持续减小,能够在纳米尺度上制作出具有特定功能的器件是研究者不断追求的目标。在微纳......
由于技术上的成熟以及广泛地应用,有掩模光刻技术一直都是占据着主导地位,而以电子束扫描刻蚀为代表的无掩模刻蚀技术只是应用在特......
聚焦离子束无掩模微细加工技术逐渐引起人们的兴趣，它包括聚焦离子束无掩模刻蚀、注入、往积、光刻等。聚焦离子束刻蚀能在半导体激......
利用镓源二级透镜聚焦离子束装置在半导体基片上进行了一系列的无掩模刻蚀实验研究，在不同材料上刻蚀了各种图形，总结分析了不同参数......
