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介绍用于 0 .35μm投影光刻机的逐场调平技术 ,讨论其检测和控制原理 ,并作精度分析 ;讨论逐场调平对套刻精度的影响 ,并建立三轴......
提高光学光刻分辨力是现代光学光刻技术研究的核心内容,而提高光刻分辨力的主要手段是进一步增大光刻物镜的数值孔和进一步缩短曝......
本文介绍０．３５μｍ（亚半微米）投影光刻机的机器，硅片，掩模，硅片对准，掩模对淮等的坐标系，并根据各坐标系讨论套刻时硅片工件台的步进模型。......
介绍用于０．３５μｍ投影光刻机的逐场调平技术，讨论其检测和控制原理，并作精度分析；讨论逐场调平对套刻精度的影响，并建立三轴测量逐场调平的套......
