投影光刻机相关论文
０．８—１微米分步重复投影光刻机问世由中国科学院成都光电所承担的国家“八五”重点攻关项目─—０．８—１微米分步重复投影光刻机已通过由电子......
掩模库系统可提高光刻机的稳定性和实用性，该系统包括精密的气动部分、机械构件和8098单片机为核心的电子／电气自动控制系统。
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０．８～１微米分步重复投影光刻机中国科学院光电技术研究所承担的国家“八·五”科技攻关项目“０．８～１微米分步重复投影光刻机”，于１９９６年１月通过了国家......
本文用部分相干光成像理论研究了提高分辨力及增大焦深的原理．建立了二元光栅倾斜照明成像数理模型。对几种倾斜照明方式进行了模拟......
阐述了照明光学系统在分步投影光刻机中的重要作用，介绍了当采用部分相干光照明时相干度对分辨率的影响，以及Ｋｏｈｌｅｒ照明中聚光镜像差对成像......
在霍普金斯（ Ｈｏｐｋｉｎｓ）理论的基础上， 对方孔的传统透射掩模、衰减相移掩模以及加入光学邻近效应校正的衰减相移掩模在硅片表面光强分布的计算......
介绍亚半微米分步重复投影光刻机同轴对准系统的成像机理和工作过程。该系统在掩模和硅片上均刻有时准光栅标记。经光栅衍射后形成......
套刻精度是衡量分步重复投影光刻机的一项重要指标。套刻精度不仅取决于对准系统的对准精度，还受环境、工艺等因素的影响。提出了提......
介绍了目前用于提高亚半微米投影光刻机成像分辨力、增大焦深的新技术及主要研究方向．对大数值孔径和短波长技术、倾斜（离轴）照明技术......
本文针对目前亚半微米分步重复投影光刻机四极／环形离轴倾斜照明能量利用率低的缺点，设计了一种二元光学元件应用于离轴倾斜照明的系......
介绍了一种用于准分子激光深层光刻实验装置的设计，并将该装置成功地应用于ＬＩＧＡ工艺的深层光刻中，光刻实验表明准分子激光层光刻具有很大......
介绍了分步重复投影光刻机亚半微米光刻物镜光学和机械结构研究设计、设计结果 ,以及公差控制。指出技术指标已达到 :数值孔径NA =......
综 述光学光刻技术现状及发展趋势童志义…………………………………………………………………… 1— 1新一轮半导体制造设备投......
题目 作者 期 (页 )电子束技术正交图形簇畸变的校正研究及计......
综 述光学光刻现状及设备市场童志义 (2 )………………………………………………………………………………当前ＩＣ的工艺与技术新......
3月16日北京市举行1980年科技成果发奖大会。市委、市政府领导同志段君毅、焦若愚等向获奖单位颁发了荣誉奖状。我校申报的应用技......
极紫外光刻技术(EUVL)是以波长为11-14nm 的软 X 射线为曝光光源的微电子光刻技术。根据目前的光刻技术发展形势看,EUVL 将是大批......
6月24日国务院正式批准的《国家集成电路产业发展推进纲要》中指出了要突出“芯片设计-制造-封测-装备材料”全产业链的布局。中国......
在以准分子激光为光源的步进扫描投影光刻机中,为了精确控制曝光剂量,需要用能量探测器实时、精确地监测单个激光脉冲的能量。研制......
分步投影光刻机(Stepper)是利用光学投影成像的原理将 IC 图形以分步重复曝光的形式成像在涂胶硅片上,实现高分辨图形转印的光学......
进入90年代后,全球分步投影光刻机(Stepper)市场便逐渐由 Nikon、ASML、SVGL 和Ultratech 几家公司所垄断。特别是进入90年代中后......
八二年五月随仪表总局半导体光学设备考察组赴美国考察,参观了美国西部半导体设备和材料展览会及若干半导体器件制造和设备制造公......
鉴定会审查了光电所提供的激光定位工件台系统实物与研制报告,以及中国计量科学研究院、科学院电工所、科学院光电所等三个单位组......
本文着重讨论了超高压汞灯的光谱衰退特性和在不同光谱线和不同光强的条件下,两种光刻胶的曝光特性。并研讨了恒光强调节系统和积......
前言采用接触式光刻机制作集成电路,这种光刻机的优点是装置简单,精度高;缺点是光照度均匀性差,硅片和掩模压紧曝光,二者容易划伤......
本文介绍的扫描投影光刻机光学系统,包括: 两个同心球面镜组成的环带视场投影系统、三个相互垂直平面镜构成的正象反光镜组、全反......
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本文分析了二维簧片支承的应力与应变。分析结果表明二维簧片支承相当于无隙球支承,但承载能力较小。
This paper analyzes the s......
本文介绍一个数值孔径0.4、视场10×10mm~2可用于1:1分步投影光刻机的镜头的光学设计及其模型实验结果.光学设计在Wynne-Dyson的1:......
扫描投影光刻机主要由光学系统与工件台系统等组成.目前工件台所用的导轨主要有滑动导轨、滚珠导轨、液压导轨、气浮导轨等,其中......
本文根据多年来的实验结果和工作经验,探讨在研制投影光刻精细线条的照明系统中,解决关于大照明面积、高照明均匀性、高象面照度及......
中国科学院光电技术研究所是集光学、精密机械、电子学和计算机应用技术于一体，主要从事工程光学和光电系统应用基础研究与高新技术......
“九·五”期间实施的知识创新工程试点取得重大进展，取得一批成果，为科技和国民经济的发展做出了积极贡献。 在全世界首次成功地构......
阐述了双频干涉仪的定位原理 ,以及在应用 CPLD设计、制作其功能电路时遇到的问题和解决方案。
Describes the principle of dual......
题目 期自力更生、排除万难、艰苦奋斗、建设三线………………………………………二 工 作 报 告:篚反击右倾翻案风的斗争中硅栅Ⅳ......
为了迎接256KDRAM正式大批量生产的到来,就要搞清楚做为关键生产设备——缩小投影光刻机的性能及光刻技术极限,人们对这种对未来......
今年五月底六月初我们出席了在美国纽约附近的Tarrytown召开的1984年国际电子束离子束和光子束讨论会(简称“三束”会议)。会议前......
第十六届电子束、离子束、光子束学术讨论会,于5月26日至29日在美国德克萨斯州达拉斯召开。我国代表连同在国外访问的学者共7人出......
美国 Cobit 公司继 CA—3000型1:1全反射扫描投影光刻机之后,最近又在此基础上研制出 CA—3400型改进型自动投影光刻机。CA—3400......
